[实用新型]一种承载治具及等离子体增强化学气相沉积设备有效
申请号: | 201320428955.8 | 申请日: | 2013-07-18 |
公开(公告)号: | CN203582970U | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 田晓敏;苗为民;李建;郭铁;孟原 | 申请(专利权)人: | 新奥光伏能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/513 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 065001 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型涉及太阳能光伏的生产设备技术领域,公开了一种承载治具及等离子体增强化学气相沉积设备。所述承载治具包括:金属托盘,且所述金属托盘具有多个硅片盛放槽。本实用新型有益效果如下:采用具有硅片盛放槽的金属托盘承载硅片在等离子体增强化学气相沉积设备中进行镀膜,由于金属托盘具有一定的强度,因此,金属托盘上可以加工出大量的硅片盛放槽,提高了单次镀膜的硅片数量,同时,采用金属托盘还可以避免在进行镀膜加工时出现托盘破碎,进一步的提高了硅片镀膜的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 承载 等离子体 增强 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种承载治具,其特征在于,包括金属托盘,且所述金属托盘具有多个硅片盛放槽,所述硅片盛放槽的底面具有至少一个通孔;还包括顶出装置,所述顶出装置包括位于硅片盛放槽内的翻片和与翻片底部固定连接并分别伸出每一个通孔的支撑杆。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的