[实用新型]一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层

摘要

本实用新型新型公开了一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，由下层氮化硅涂层、中间层形核功能层和上层氮化硅涂层组成，所述下层氮化硅涂层设置在坩埚本体的底部，所述中间层形核功能层设置在下层氮化硅涂层上，所述上层氮化硅涂层设置在中间层形核功能层上，所述中间层形核功能层上分布有均匀或不均匀的孔洞或裂缝。本实用新型的有益效果是：（1）涂层表面分布大量孔洞或者裂缝，该结构可有效的降低形核所需的形核功，促进非均匀形核的能力，从而快速形核，生长的晶粒尺寸较小、大小均匀，晶体的缺陷密度低；（2）涂层使用高纯度原料制成，生产的硅锭底部红区短，产出率高。

主权项

一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，由下层氮化硅涂层（1）、中间层形核功能层（2）和上层氮化硅涂层（3）组成，所述下层氮化硅涂层（1）设置在坩埚本体（4）的底部，所述中间层形核功能层（2）设置在下层氮化硅涂层（1）上，所述上层氮化硅涂层（3）设置在中间层形核功能层（2）上，所述中间层形核功能层（2）上分布有均匀或不均匀的孔洞或裂缝。2．根据权利要求1所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述中间层形核功能层（2）由高纯氮化硅、高纯硅微粉或高纯塞隆粉材料制成。3．根据权利要求2所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述中间层形核功能层（2）的厚度为1‑5mm。4．根据权利要求3所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述孔洞为圆形、椭圆形或正方形孔洞，孔洞直径为0.1mm‑1mm，孔洞间距为0.5‑20mm。5．根据权利要求4所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述裂缝为连续或断续的直线或曲线式裂缝，裂缝宽度为0.1mm‑1mm，裂缝间距为0.5‑20mm。6．根据权利要求4或5所述的一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层，其特征在于，所述下层氮化硅涂层（1）和上层氮化硅涂层（3）的厚度为100‑200μm。