[实用新型]一种晶圆清洗刷和晶圆清洗装置有效
申请号: | 201320474241.0 | 申请日: | 2013-08-05 |
公开(公告)号: | CN203620984U | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 唐强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;H01L21/02 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种晶圆清洗刷和晶圆清洗装置,所述晶圆清洗刷至少包括:刷筒和设于所述刷筒外圆周面且交错排列的分叉型刷头;所述分叉型刷头呈“八”字型。通过在刷筒上设置有交错排列的呈“八”字型的分叉型刷头,一方面,在清洗时,清洗刷向晶圆方向转动,所述分叉型刷头能让大部分清洗液和晶圆接触,仅有少量的清洗液从刷头的分叉口流失,大部分清洗液会由于清洗刷的旋转方向和惯性整体往晶圆及晶圆边缘方向流动,这样可以有效利用清洗液,减少清洗液的用量,节约成本;另一方面,清洗刷的刷头和晶圆表面接触挤压产生形变,增大刷头和晶圆表面的接触面积,从而更容易清洗干净晶圆表面及边缘。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶圆清 洗刷 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种晶圆清洗刷,用于清洗进行化学机械抛光工艺后的晶圆表面,其特征在于,所述晶圆清洗刷至少包括:刷筒和设于所述刷筒外圆周面且交错排列的分叉型刷头;所述分叉型刷头呈“八”字型,所述“八”字型刷头分别沿刷筒的轴向和周向均匀分布。
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