[实用新型]高反压双极型功率晶体管有效

专利信息
申请号: 201320511512.5 申请日: 2013-08-20
公开(公告)号: CN203406292U 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 崔峰敏 申请(专利权)人: 傲迪特半导体(南京)有限公司
主分类号: H01L29/73 分类号: H01L29/73;H01L29/08;H01L23/522
代理公司: 江苏致邦律师事务所 32230 代理人: 樊文红
地址: 210034 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 高反压双极型功率晶体管,在长宽为3260μm×3260μm的低掺杂N型硅的集电区上的设有正方形的高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的反射区,所述反射区由若干排成阵列的圆形小反射区组成,每个所述小反射区的圆心处设有反射区接触孔,由反射极金属化电极条连接至反射极电极;相邻的每四个所述小反射区的中心处的基区上设有基区接触孔,由基极金属化电极条连接至基极电极;基区和反射区表面覆盖有铝层,基区和反射区之间通过绝缘槽分割开。本实用新型的版图,使反射极的宽度增加以达到更大的限流,而且面积利用率极高。
搜索关键词: 高反压双极型 功率 晶体管
【主权项】:
 高反压双极型功率晶体管,在长宽为3260μm×3260μm的低掺杂N型硅的集电区上的设有正方形的高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的反射区,其特征是,所述反射区由若干排成阵列的圆形小反射区组成,每个所述小反射区的圆心处设有反射区接触孔,反射区接触孔由反射极金属化电极条连接至反射极电极;相邻的每四个所述小反射区的中心处的基区上设有基区接触孔,基区接触孔由基极金属化电极条连接至基极电极;基区和反射区表面覆盖有铝层,基极金属化电极条和反射极金属化电极条之间通过绝缘槽分割开。
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