[实用新型]集成电路结构有效

专利信息
申请号: 201320516896.X 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN203721726U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: N·劳贝特;柳青;S·波诺斯 申请(专利权)人: 意法半导体公司;国际商业机器公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;张宁
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 实用新型的实施例涉及一种集成电路结构,包括:经过在衬底上的薄掩埋氧化物上面的有源半导体层形成的隔离沟槽;以及所述有源半导体层的向所述隔离沟槽中延伸的横向外延生长区域。
搜索关键词: 集成电路 结构
【主权项】:
一种集成电路结构,其特征在于,包括:经过在衬底上的薄掩埋氧化物上面的有源半导体层形成的隔离沟槽;以及所述有源半导体层的向所述隔离沟槽中延伸的横向外延生长区域。
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