[实用新型]蒸发源装置和真空蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201320627187.9 申请日: 2013-10-11
公开(公告)号: CN203976897U 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: 沐俊应;马大伟;乔永康 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种蒸发源装置和真空蒸镀设备,该蒸发源装置包括:蒸发腔室和对蒸发材料进行加热并将加热后的蒸发材料传输至所述蒸发腔室内的进料腔室,所述蒸发腔室与所述进料腔室连接,在进行蒸镀过程中,可根据蒸发腔室内的蒸发材料的余量和蒸发速率,通过进料腔室对蒸发腔室进行加料,在加料过程中无须进行开腔处理,使得真空蒸镀设备能够连续地、长时间地进行蒸镀,提高了真空蒸镀设备的生产效率。
搜索关键词: 蒸发 装置 真空 设备
【主权项】:
一种蒸发源装置,其特征在于,包括:蒸发腔室和对蒸发材料进行加热并将加热后的蒸发材料传输至所述蒸发腔室内的进料腔室,所述蒸发腔室与所述进料腔室连接; 所述蒸发腔室的侧壁上设置有通孔,所述进料腔室通过所述通孔与所述蒸发腔室连接; 所述进料腔室包括:对蒸发材料进行预先存储的储料腔室和对蒸发材料进行预先加热的加热腔室,所述加热腔室的一端与所述储料腔室连接,所述加热腔室的另一端与所述蒸发腔室连接; 所述加热腔室包括:第一腔体和设置于第一腔体内侧的第一加热层。
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