[实用新型]一种化学机械研磨垫有效
| 申请号： | 201320649958.4 | 申请日： | 2013-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN203542340U | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 唐强;马智勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/16 | 分类号： | B24B37/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种化学机械研磨垫，所述化学机械研磨垫至少包括：研磨垫本体和位于所述研磨垫本体上的若干沟槽，所述沟槽截面为若干同心圆环，位于研磨垫中部的沟槽的横截面为直角U型，位于研磨垫边缘的沟槽的横截面为倒直角梯形。所述倒直角梯形沟槽的深度h1和直角U型沟槽的深度h2的大小根据需要设定。将研磨垫边缘的沟槽设计为倒直角梯形，即可以保持研磨液在倒直角梯形沟槽里面流通顺畅，提高了研磨的速率，又有利于研磨副产物的顺畅排除，可以提高研磨的质量；根据需要设计位于研磨垫边缘的倒直角梯形沟槽的深度h1和位于研磨垫中部的直角U型沟槽的深度h2，可以选择性地提高晶圆中部或者边缘的研磨速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械 研磨 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨垫，其特征在于，所述化学机械研磨垫至少包括：具有旋转中心的研磨垫本体，其由底层和表层两层构成；设于所述表层内的、用于分布抛光液的若干沟槽，所述沟槽截面为若干以研磨垫本体的旋转中心为圆心的同心圆环；位于研磨垫中部的沟槽的横截面为直角U型；位于研磨垫边缘的沟槽的横截面为倒直角梯形。
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