[实用新型]缺陷深度的射线检测装置有效

专利信息
申请号: 201320662390.X 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN203629549U 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 王华成 申请(专利权)人: 东方电气(武汉)核设备有限公司
主分类号: G01B15/00 分类号: G01B15/00
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 邬丽明
地址: 430223 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供一种缺陷深度的射线检测装置,其包括放射源,其用于发射射线;准直器,其设置在该放射源的射线路径上;显像单元,其用于接收透射过所述待检测物的射线,以显示所述待检测物的缺陷在所述显像单元上的位置。所述放射源在第一位置与第二位置分别发射第一射线与第二射线,并在所述显像单元上形成第一缺陷位置与第二缺陷位置。根据所述放射源的第一位置、所述放射源的第二位置、所述缺陷的位置、所述显像单元上的第一缺陷位置、所述显像单元上的第二缺陷位置所形成的两个三角形,利用相似三角形的等比关系计算出所述缺陷的深度。所述缺陷深度的射线检测装置可测量出缺陷的深度,且结构简单,测量方便。
搜索关键词: 缺陷 深度 射线 检测 装置
【主权项】:
缺陷深度的射线检测装置,其特征在于,它包括:放射源,其位于待检测物的第一表面侧,用于发射射线;准直器,其设置在所述放射源的射线路径上;显像单元,其位于所述待检测物的第二表面侧,用于接收经过该准直器且透射过所述待检测物的射线,以显示所述待检测物的缺陷在所述显像单元上的位置,所述待检测物的第一表面与第二表面相对;所述放射源位于第一位置处发射出第一射线,所述第一射线通过该准直器后透射过所述待检测物在所述显像单元上形成第一缺陷位置,所述放射源位于第二位置处发射出第二射线,所述第二射线通过该准直器后透射过所述待检测物在所述显像单元上形成第二缺陷位置,所述放射源在所述第一位置处发出的第一射线垂直于所述待检测物的第一表面,所述放射源在所述第二位置处发出的第二射线相对于所述待检测物的第一表面倾斜,所述第一位置与所述第二位置在同一水平面上。
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