[实用新型]一种X光高温高压催化反应炉有效
| 申请号： | 201320682174.1 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN203540490U | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 张晓哲;孙凡飞;姜政 | 申请（专利权）人： | 沈阳迈维科技有限公司 |
| 主分类号： | B01J3/04 | 分类号： | B01J3/04;B01J19/12;B01J19/02 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 郑自群 |
| 地址： | 110168 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提出了一种X光高温高压催化反应炉，包括：气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道，气体进口通道通过连通孔与炉腔导通，炉腔内侧设置有屏蔽层，外壁上设置有窗口和铍窗法兰，窗口和铍窗法兰之间设置有保护层，保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层，屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。铍窗法兰、镀铝铍片层、高分子薄膜层、胶圈、炉腔及炉上盖由螺栓连接形成一密封腔体，由于高分子薄膜层设置在镀铝铍片内侧，可将催化气体与镀铝铍片隔离，因此高分子薄膜层可以保护镀铝铍片不被催化气体及催化物污染，镀铝铍片材料性能优异可以承受1MPa的反应压力并且低能X光可以顺利通过照射到催化物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高温 高压 催化 反应炉 | ||
【主权项】：
一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，包括：气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道，所述气体进口通道通过连通孔与所述炉腔导通，所述炉腔内侧设置有屏蔽层，外壁上设置有窗口和铍窗法兰，所述窗口和所述铍窗法兰之间设置有保护层，所述保护层包括位于外侧的镀铝铍片层和位于内侧的高分子薄膜层，所述屏蔽层包括与保护层对应设置的铍片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳迈维科技有限公司，未经沈阳迈维科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201320682174.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：含2-氨基吡啶基四齿配体的配合物及其应用
- 下一篇：一种秧草收获方法及收获机
