[实用新型]一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置

摘要

本实用新型公开一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置，改变了磁控溅射工艺中磁场的引入方式，通过一个电磁线圈引入与电场正交的磁场，电磁线圈内还设有外接加热电源、电位电源的钨丝，钨丝与电位电源的负极相连，并连接到接地铜板，使钨丝的电位为负，与接地的真空室之间形成电场，控制钨丝发射的热电子的运动轨迹更长，从而更加有效地与氩气分子进行碰撞电离；不锈钢基底外接电源的负极，确保不锈钢基底为负电位，可以降低表面势垒，利用场致效应产生更多的电子与氩气分子碰撞，氩气的离化率提高到70~80%。

主权项

一种制备AZO透明导电膜的磁控溅射装置，包括真空室（1），气体流量控制器(14)，真空泵组 (15)，真空室（1）内设有衬底板(4)，衬底加热器(5)，AZO靶材(8)，不锈钢基底(9)和绝缘板(10)，其特征在于，所述真空室（1）内设有电磁线圈（2），电磁线圈（2）外接线圈电源（3），所述衬底板(4)，AZO靶材(8)，不锈钢基底(9)和绝缘板(10)均设置于所述电磁线圈（2）内，所述电磁线圈（2）内还设有外接加热电源（11）、电位电源（12）的钨丝（6），钨丝(6)与电位电源(12)的负极相连，并连接到接地铜板(16)，使钨丝（6）的电位为负，与接地的真空室(1)之间形成电场。