[实用新型]匀胶装置和取向膜涂覆装置有效

专利信息
申请号: 201320718037.9 申请日: 2013-11-14
公开(公告)号: CN203643722U 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 王平;占飞;金相旭;左长云;聂慧 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;B05C11/10;B05C11/04
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了匀胶装置和取向膜涂覆装置,该匀胶装置包括:匀胶辊、与所述匀胶辊的旋转轴平行的刮刀、固定所述刮刀的固定支架和照射所述匀胶辊的表面的光源,所述光源固定于所述固定支架上。本申请中光源用于照射匀胶辊的表面,以便于人眼对匀胶辊表面的取向膜基层进行观察,同时,人眼可根据观察结果判断刮刀的磨损程度,以便及时更换刮刀,从而可有效避免异常的取向膜基层形成。
搜索关键词: 装置 取向 膜涂覆
【主权项】:
一种匀胶装置,其特征在于,包括:匀胶辊、与所述匀胶辊的旋转轴平行的刮刀、固定所述刮刀的固定支架和照射所述匀胶辊的表面的光源,所述光源固定于所述固定支架上。
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