[实用新型]用于光刻机曝光台的清洁装置有效
| 申请号： | 201320729766.4 | 申请日： | 2013-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN203606624U | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 潘敏炜;陈群琦 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B5/02;B08B15/04 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于光刻机曝光台的清洁装置，包括一操作杆、与所述操作杆相连接的移动件，所述移动件靠近曝光台的底部具有一凹腔，所述凹腔通过一进气管与一氮气源或清洁干燥的空气源相连，通过一出气管与一抽真空装置相连。本实用新型采用一吹一吸的基本原理，通过氮气吹力把光刻机曝光台上的杂质颗粒吹起，然后通过另一端真空吸走颗粒，不但降低了操作者在狭小空间内的操作难度，降低了精密部件的损坏几率，而且提高了清洁效率，实现了高效安全的清洁目的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 曝光 清洁 装置 | ||
【主权项】：
一种用于光刻机曝光台的清洁装置，其特征在于：包括一操作杆、与所述操作杆相连接的移动件，所述移动件靠近曝光台的底部具有一凹腔，所述凹腔通过一进气管与一氮气源或清洁干燥的空气源相连，通过一出气管与一抽真空装置相连。
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