[实用新型]电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置有效

专利信息
申请号: 201320745518.9 申请日: 2013-11-22
公开(公告)号: CN203699921U 公开(公告)日: 2014-07-09
发明(设计)人: 王登科;姜大川;安广野;郭校亮;谭毅 申请(专利权)人: 青岛隆盛晶硅科技有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266234 山东省*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型属于多晶硅提纯领域,具体涉及一种电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置,本实用新型中,打破了传统的除氧模式,而是采用电子束熔炼进行除氧,解决了多晶硅中杂质氧去除的难题。翻转机构和装载坩埚的加入,保证了电子书熔炼除氧的半连续化生产,单炉出产量高。本实用新型的优点在于:(1)经过5~15min的电子束轰击熔炼,氧含量可以降低于0.0571ppmw以下,满足太阳能电池对多晶硅铸锭含氧量的要求;(2)与不进行除氧技术的多晶硅相比,提高电池片的光电转换效率0.1%以上;(3)可实现连续化生产,提高生产效率35%以上。
搜索关键词: 电子束 连续 熔炼 去除 多晶 硅中氧 杂质 装置
【主权项】:
一种电子束连续熔炼去除多晶硅中氧杂质的装置,包括炉体,其特征在于炉体内上部与上炉盖连通安装有送料机构和电子枪,位于炉体内的送料机构的送料口下方设置有熔炼坩埚,该熔炼坩埚底部设置有翻转机构,翻转机构与下炉盖相通连,位于炉体内翻转机构一侧安置有装载坩埚。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛隆盛晶硅科技有限公司,未经青岛隆盛晶硅科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320745518.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top