[实用新型]一种半导体晶圆加工用胶带有效

专利信息
申请号: 201320791503.6 申请日: 2013-12-03
公开(公告)号: CN203487078U 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 王红 申请(专利权)人: 王红
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02
代理公司: 小松专利事务所 11132 代理人: 洪善信
地址: 150018 黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种半导体晶圆加工用胶带,所述胶带包括基材、粘结剂和粘结膜,所述粘结膜通过粘结剂与基材连接,所述粘结膜的透湿度为10克每平方米每天,所述粘结膜的厚度小于基材的厚度,所述粘结剂的涂抹厚度小于基材的厚度。所述基材为PET材质。所述基材的厚度3-90微米。本实用新型的胶厚度较小,方便用于半导体晶圆加工,具有实用价值。
搜索关键词: 一种 半导体 晶圆加 工用 胶带
【主权项】:
一种半导体晶圆加工用胶带,其特征在于:所述胶带包括基材、粘结剂和粘结膜,所述粘结膜通过粘结剂与基材连接,所述粘结膜的透湿度为10克每平方米每天,所述粘结膜的厚度小于基材的厚度,所述粘结剂的涂抹厚度小于基材的厚度。
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