[实用新型]研磨垫有效
| 申请号： | 201320805113.X | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN203622171U | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种研磨垫，包括研磨垫底层、位于所述研磨垫底层上并设有多个沟槽的研磨片表层和位于所述沟槽内的阻挡块。在研磨垫的沟槽中添加阻挡块能够阻挡住一部分研磨液，防止研磨液的流失，达到节省成本的目的，同时还不影响沟槽排出使用过的研磨液以及副产物，并且由于研磨液可以被所述阻挡块存储在所述研磨垫中，能够提高研磨效率以及研磨质量。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，其特征在于，所述研磨垫包括研磨垫底层、位于所述研磨垫底层上并设有多个沟槽的研磨片表层和位于所述沟槽内的阻挡块。
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