[实用新型]一种真空远区等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201320809973.0 申请日: 2013-12-11
公开(公告)号: CN203588974U 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 沈文凯;王红卫 申请(专利权)人: 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人: 孟宏伟
地址: 215011 江苏省苏州市苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种真空远区等离子体处理装置,包括反应腔、电极组件、等离子发生器和负压设备,反应腔包括放电腔和用于材料表面活化反应的处理腔,放电腔设置于处理腔上方并与处理腔连通,放电腔顶部设置有气体入口,处理腔底部设置有气体出口,电极组件设置于放电腔外表面,等离子发生器与电极组件电连接,负压设备与气体出口连接。本实用新型中负压设备将放电腔和处理腔中抽真空,等离子发生器驱动电极组件生成电场,反应气体从气体入口进入经过放电腔电离后进入处理腔中对材料表面进行活化反应,材料远离电场环境,适用于绝缘材料和非绝缘材料,满足各种材料的处理需求,处理腔不受放电腔空间的限制,可满足不同面积的材料处理,更加方便。
搜索关键词: 一种 真空 等离子体 处理 装置
【主权项】:
一种真空远区等离子体处理装置,其特征在于,包括反应腔、电极组件、等离子发生器和负压设备,所述反应腔包括放电腔和用于材料表面活化反应的处理腔,所述放电腔设置于所述处理腔上方并与所述处理腔连通,所述放电腔顶部设置有气体入口,所述处理腔底部设置有气体出口,所述电极组件设置于所述放电腔外表面,所述等离子发生器与所述电极组件电连接,所述负压设备与所述气体出口连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市奥普斯等离子体科技有限公司,未经苏州市奥普斯等离子体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320809973.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top