[实用新型]气刀装置和液刀装置有效
| 申请号： | 201320844332.9 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN203642643U | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 胡伟;张帆;吴兆甑;许明;余灯红;杨子衡;吴代吾;候智 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | F26B21/00 | 分类号： | F26B21/00;B05B1/02 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种气刀装置和液刀装置，涉及显示器制造技术领域，通过提升流体出射时的压力来保证流体流量的均匀和稳定。该气刀装置或液刀装置包括：下方开有刀口的腔体，刀口由侧壁和相对的第一刀唇和第二刀唇形成，第一刀唇和第二刀唇之间的距离自上至下逐渐变窄，还包括：设置在腔体中的导流机构，导流机构包括相对的第一导流片和第二导流片，第一导流片和第二导流片分别位于第一刀唇侧和第二刀唇侧，第一导流片下部和第二导流片下部之间的距离自上至下逐渐变窄，第一导流片和第二导流片的最下端封闭连接，第一导流片和第二导流片的最下端位于刀口处；第一导流片和第二导流片之间的腔体壁上设置有流体入口。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
一种气刀装置，包括下方开有刀口的腔体，所述刀口由侧壁和相对的第一刀唇和第二刀唇形成，所述第一刀唇和第二刀唇之间的距离自上至下逐渐变窄，其特征在于，还包括：设置在所述腔体中的导流机构，所述导流机构包括相对的第一导流片和第二导流片，所述第一导流片和第二导流片分别位于所述第一刀唇侧和所述第二刀唇侧，所述第一导流片和第二导流片与所述腔体壁之间间隔一定距离，所述第一导流片和第二导流片均包括上部和下部，所述第一导流片下部和第二导流片下部之间的距离自上至下逐渐变窄，所述第一导流片和第二导流片的最下端封闭连接，所述第一导流片和第二导流片的最下端位于所述刀口处；所述第一导流片和第二导流片之间的腔体壁上设置有气体入口。
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