[实用新型]一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统

摘要

一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，包括温控仪、真空泵、流量计、真空计、温度传感器、控制杆、进料和出料输送系统、PLC控制柜、数据线和信号线；温控仪、流量计、温度传感器与加热炉连接；真空泵、真空计与进料室、加热炉和出料室连接，分别用于抽真空和测量真空度；进料和出料输送系统分别位于进料室和出料室；控制杆用于进料和出料输送系统中的送取物料作业；PLC控制柜通过数据线和信号线与温控仪，真空泵，流量计，真空计，温度传感器，控制杆，进料室、出料室缸盖，进料室、出料室与加热炉间挡板阀连接并进行控制。本实用新型可在线监测和保存关键工艺参数的实时波形和数据，自动化程度高，可靠性和稳定性高，抗干扰能力强。

主权项

一种用于石墨烯薄膜制备的CVD监控系统，其特征在于：包括温控仪、真空泵、流量计、真空计、温度传感器、控制杆、进料和出料输送系统、PLC控制柜、数据线和信号线；所述温控仪、流量计、温度传感器与加热炉连接；所述真空泵、真空计与进料室、加热炉和出料室连接，分别用于抽真空和测量真空度；所述进料和出料输送系统分别位于进料室和出料室；所述控制杆用于所述进料和出料输送系统中的送取物料作业；所述PLC控制柜通过所述数据线和信号线与所述温控仪，真空泵，流量计，真空计，温度传感器，控制杆，进料室、出料室缸盖，进料室、出料室与加热炉之间挡板阀连接。