[实用新型]一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚有效
| 申请号： | 201320882574.7 | 申请日： | 2013-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN203653753U | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 周建华 | 申请（专利权）人： | 西安华晶电子技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人： | 谭文琰 |
| 地址： | 710077 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，包括用于填装硅料的石英坩埚，所述石英坩埚的内侧壁与底部均均匀喷涂有一层氮化硅涂层，所述石英坩埚内侧壁与底部的氮化硅涂层上均均匀喷涂有一层硅粉涂层；所述石英坩埚内侧壁上所喷涂的硅粉涂层与硅料之间垫装有一层由块状多晶硅拼装形成的护边。本实用新型结构简单、设计合理且装料过程简便，能减小靠近石英坩埚内壁与底部的硅料的污染程度，并通过护边减少硅料熔化过程中对硅粉涂层的摩擦和侵蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 隔离 涂层 多晶 铸锭 坩埚 | ||
【主权项】：
一种带隔离涂层的多晶硅铸锭用坩埚，其特征在于：包括用于填装硅料（1）的石英坩埚（2），所述石英坩埚（2）的内侧壁与底部均均匀喷涂有一层氮化硅涂层（3），所述石英坩埚（2）内侧壁与底部的氮化硅涂层（3）上均均匀喷涂有一层硅粉涂层（4）；所述石英坩埚（2）内侧壁上所喷涂的硅粉涂层（4）与硅料（1）之间垫装有一层由块状多晶硅拼装形成的护边（5）。
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