[实用新型]一种进气分配装置有效
申请号: | 201320884748.3 | 申请日: | 2013-12-30 |
公开(公告)号: | CN203866382U | 公开(公告)日: | 2014-10-08 |
发明(设计)人: | 兰云峰;任鑫;刘东 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C30B25/14 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 孟宪功 |
地址: | 100015 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体工艺设备技术领域,尤其涉及一种进气分配装置。该进气分配装置包括具有导热功能的集成块和用于为集成块加热的加热元件,集成块内设有多个流道,加热元件设置于集成块中,流道与气源端连接,且还与腔室连接。本实用新型的进气分配装置通过加热元件加热集成块,使得流道内通入的气体得到均匀加热,从而实现向化学气相沉积反应腔室内进气时,多路气体预热的功能,且控制流道之间的连接角度,以保证气体进入腔室的阻力减小,从而保证气体进入腔室的流速,避免影响设备生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 分配 装置 | ||
【主权项】:
一种进气分配装置,其特征在于,包括具有导热功能的集成块(1)和用于为所述集成块(1)加热的加热元件(5),所述集成块(1)内设有多个流道(2),所述加热元件(5)设置于所述集成块(1)中,所述流道(2)与气源端连接,且还与腔室连接; 当流道(2)为通孔时,在流道(2)与集成块(1)连通的位置分别设有封闭部件(3);当流道(2)为盲孔时,在流道(2)与集成块(1)连通的位置设有封闭部件(3),封闭部件(3)与集成块(1)严密焊接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的