[实用新型]一种高强度的磁芯有效
申请号: | 201320890260.1 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN203799813U | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 王嘉隆 | 申请(专利权)人: | 昆山优磁电子有限公司 |
主分类号: | H01F27/24 | 分类号: | H01F27/24;H01F3/00;H01F1/12;H01F41/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种高强度的磁芯,磁芯呈E字型结构,包括本体和从本体的同一方向伸出的并列设置的第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂,第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂与本体的连接处采用弧形过渡结构;弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构:0~0.04mm深度范围内,晶粒尺寸为20~40nm;0.04~0.1mm深度范围内,晶粒尺寸为30~80nm;0.1~0.2mm深度范围内,晶粒尺寸为60~150nm。三层不同大小的晶粒配合使得磁芯的各连接部硬度高,弹性应变大,能够适应温度骤降或者骤升,保证磁芯的各连接部的结构完整性,保证供电质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 强度 | ||
【主权项】:
一种高强度的磁芯,包括本体(4)和并列设置的第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)和第三伸出臂(3),第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)和第三伸出臂(3)大致沿同一方向从本体(4)伸出,第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)第三伸出臂(3)和本体(4)组成E字形结构,其特征在于,所述第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)、第三伸出臂(3)与本体(4)的连接处采用弧形过渡结构;所述弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构:0~0.04mm深度范围内,晶粒尺寸为20~40nm;0.04~0.1mm深度范围内,晶粒尺寸为30~80nm;0.1~0.2mm深度范围内,晶粒尺寸为60~150nm。
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