[发明专利]等离子体发生装置、以及蒸镀装置和蒸镀方法有效
| 申请号： | 201380001628.7 | 申请日： | 2013-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN103597913A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 古屋英二;赤野真也 | 申请（专利权）人： | 中外炉工业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/50 | 分类号： | H05H1/50;C23C14/32;C23C14/48 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够形成适用于等离子体辅助法的等离子体的等离子体发生装置。该等离子体发生装置的特征在于，包括：腔室（2）；等离子体枪（3），该等离子体枪（3）设置成朝向腔室（2）的内部，且具有放出电子的阴极（7）、和形成对阴极（7）所放出的电子进行引导的磁通的收束线圈（11）；以及辅助磁铁（4），该辅助磁铁（4）在腔室（2）的内部形成磁通，而且，对收束线圈（11）施加使磁通的方向发生变动的励磁电流。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 发生 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体发生装置，其特征在于，包括：腔室；等离子体枪，该等离子体枪设置成朝向所述腔室的内部，且具有放出电子的阴极、和形成对所述阴极所放出的电子进行引导的磁通的收束线圈；以及辅助磁铁，该辅助磁铁在所述腔室内形成磁通，对所述收束线圈施加使磁通的方向发生变动的励磁电流。
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