[发明专利]制造半导体发光器件的方法有效

专利信息
申请号: 201380004186.1 申请日: 2013-07-18
公开(公告)号: CN103975451B 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 全水根;朴恩铉;金勈德 申请(专利权)人: 世迈克琉明有限公司
主分类号: H01L33/36 分类号: H01L33/36;H01L33/46
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;刘久亮
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及一种制造半导体发光元件的方法,该方法包括:形成要与第二半导体层电连通的分支电极;以及在该分支电极上形成由多个电介质膜构成的不导电反射膜,以从有源层向在生长衬底侧的第一半导体层反射光,其包括通过化学气相沉积形成底层,以及通过物理气相沉积形成至少两个层,其中,该底层的厚度比底层上方层压的所述至少两个层中的每个的厚度厚;以及形成电连接件,该电连接件贯穿该不导电反射膜并且与该分支电极电连接。
搜索关键词: 制造 半导体 发光 器件 方法
【主权项】:
一种制造半导体发光器件的方法,该方法包括以下步骤:制备在生长衬底上顺序生长的多个半导体层,所述多个半导体层包括具有第一导电性的第一半导体层、具有不同于所述第一导电性的第二导电性的第二半导体层、以及介于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的、经由电子‑空穴复合产生光的有源层,其中所述第一半导体层通过刻蚀而部分露出;在具有在刻蚀期间形成的台阶的所述多个半导体层上形成由多层电介质膜组成的不导电反射膜,以从所述有源层向在所述生长衬底侧的所述第一半导体层反射光,其中,所述不导电反射膜被形成为,使得通过化学气相沉积获得的底层具有比通过不同于所述化学气相沉积的沉积获得的要沉积在所述底层上的两个或更多个层中的每个的厚度大的厚度,其中所述台阶通过化学气相沉积被所述底层覆盖;以及形成电连接件,所述电连接件穿过所述不导电反射膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于世迈克琉明有限公司,未经世迈克琉明有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380004186.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top