[发明专利]防反射膜、光学系统、光学设备以及防反射膜的成膜方法有效
| 申请号： | 201380005326.7 | 申请日： | 2013-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN104040380A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 小山匡考;细川一幸 | 申请（专利权）人： | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B32B7/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种具有从可见光到红外区域(波长范围400nm～1600nm)的频带的防反射膜。交替层叠高折射率物质和折射率比高折射率物质低的低折射率物质，在最表层上层叠折射率比低折射率物质低的超低折射率物质而构成为12层。从基板侧起按顺序在第1、3、5、7、9、11层上层叠有高折射率物质，在第2、4、6、8、10层上层叠低折射率物质，在第12层上层叠有超低折射率物质。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光学系统 光学 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种防反射膜，其特征在于，该防反射膜具有12层的结构，交替层叠有高折射率物质和折射率比所述高折射率物质低的低折射率物质，在最表层上层叠有折射率比所述低折射率物质低的超低折射率物质。
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