[发明专利]陶瓷圆筒形溅射靶材及其制造方法有效
| 申请号： | 201380006061.2 | 申请日： | 2013-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN104066700B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 真崎贵则;石田新太郎 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司11225 | 代理人： | 朱梅,苏萌萌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明为一种陶瓷圆筒形溅射靶材，其特征在于,所述陶瓷圆筒形溅射靶材为，长度为500mm以上且相对密度为95％以上的一体部件。由于本发明的陶瓷圆筒形溅射靶材为具有高密度且500mm以上的长度的一体部件，因此无需将多个溅射靶材堆叠从而设为长尺寸来使用。因此，由于在磁控管旋转阴极溅射装置等中使用本发明的陶瓷圆筒形溅射靶材的情况下，靶材整体不存在分割部或者其数量较少，因此在溅射中电弧或微粒的产生较少。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷 圆筒 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种陶瓷圆筒形溅射靶材,其特征在于，所述陶瓷圆筒形溅射靶材为，长度为750mm以上且相对密度为99％以上的一体部件的烧结体。
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