[发明专利]具有用于测量衬底台的位置的计量系统的光刻装置无效
| 申请号： | 201380006789.5 | 申请日： | 2013-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN104081283A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | A·H·凯沃特斯;S·N·L·唐德斯;T·P·M·凯德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，包括用于容纳衬底的衬底台；用于将图案成像到衬底上的投影系统；以及用于测量衬底台相对于投影系统的位置的计量系统。计量系统包括连接至投影系统的计量框架，相对于计量框架静止定位的栅格，以及面向栅格的用于测量衬底台相对于栅格的位置且连接至衬底台的编码器。计量框架具有方向朝向衬底台的表面，并且该表面已经例如通过写或刻蚀被配置以便形成所述栅格。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用于 测量 衬底 位置 计量 系统 光刻 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：用于容纳衬底的衬底台；用于将图案成像到所述衬底上的投影系统；以及用于测量所述衬底台相对于所述投影系统的位置的计量系统；其中：所述计量系统包括：连接至所述投影系统的计量框架；相对于所述计量框架静止定位的栅格；以及连接至所述衬底台并且面向所述栅格的、用于测量所述衬底台相对于所述栅格的位置的编码器；所述计量框架具有定向为朝向所述衬底台的表面；以及所述表面已经被配置以便形成所述栅格。
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