[发明专利]磁控溅射用磁场产生装置有效
| 申请号： | 201380006940.5 | 申请日： | 2013-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN104093878A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | 栗山义彦 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁控溅射用磁场产生装置，具有由直线部及拐角部构成的跑道形状，在由非磁性体构成的基体上具有：棒状的中央磁极构件；以包围所述中央磁极构件的方式设置的外周磁极构件；在所述中央磁极构件与所述外周磁极构件之间，以一方的磁极与所述中央磁极构件对置而另一方的磁极与所述外周磁极构件对置的方式设置的多个永久磁铁，设于所述直线部的多个永久磁铁包含与所述靶表面垂直的方向的厚度在磁化方向的中央部比两端部薄的至少一个磁场调节用永久磁铁。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 磁场 产生 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射用磁场产生装置，其与靶对置，用于使靶表面产生磁场，该磁控溅射用磁场产生装置形成为由直线部及拐角部构成的跑道形状，所述磁控溅射用磁场产生装置的特征在于，在由非磁性体构成的基体上具有：(a)棒状的中央磁极构件；(b)以包围所述中央磁极构件的方式设置的外周磁极构件；(c)在所述中央磁极构件与所述外周磁极构件之间，以一方的磁极与所述中央磁极构件对置而另一方的磁极与所述外周磁极构件对置的方式设置的多个永久磁铁，设于所述直线部的多个永久磁铁包含与所述靶表面垂直的方向的厚度在磁化方向的中央部比两端部薄的至少一个磁场调节用永久磁铁。
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