[发明专利]低折射率膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201380007423.X | 申请日： | 2013-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN104080869B | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 加藤拓;岛田惠;中岛诚 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/00 | 分类号： | C09D183/00;C09D7/12;C09D183/02;G02B1/113;H05B33/02;H05B33/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 段承恩,田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的课题是提供一种适合于制作具有低折射率，可以实现高透明性、高耐热性、高耐光性、高硬度的显示器件用膜的膜形成用组合物。作为解决本发明课题的手段涉及一种膜形成用组合物，其包含由水解性硅烷在非醇溶剂中水解并缩合而得的重均分子量1000～20000的硅化合物(A)，平均粒径1～100nm的无机粒子(B)，和溶剂(C)。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 形成 组合 | ||
【主权项】：
一种膜形成用组合物，其包含：由水解性硅烷在丙酮或四氢呋喃中水解并缩合而得的重均分子量1000～20000的硅化合物(A)；平均粒径1～100nm的无机粒子(B)；和溶剂(C)，硅化合物(A)为下述式(1)所示的水解性硅烷的水解缩合物，Si(R1)4 式(1)式中R1表示烷氧基，式(1)所示的水解性硅烷为四乙氧基硅烷或四甲氧基硅烷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学工业株式会社，未经日产化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380007423.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
