[发明专利]包含具体含硫化合物和糖醇或多元羧酸的化学机械抛光后的清洗组合物在审
| 申请号： | 201380007434.8 | 申请日： | 2013-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN104093824A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | Y·李;S·S·文卡塔拉曼;M·钟 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C11D7/22 | 分类号： | C11D7/22;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张双双;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种化学机械抛光后(CMP后)清洗组合物，包含：(A)至少一种化合物，其包含至少一个硫醇基(‑SH)、硫醚基(‑SR |
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| 搜索关键词： | 包含 具体 硫化 多元 羧酸 化学 机械抛光 清洗 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光后(CMP后)的清洗组合物，包含：(A)硫脲、半胱氨酸或N-乙酰基半胱氨酸；(B)赤藓醇、苏糖醇或其立体异构体或其混合物；和(C)水，其中所述化学机械抛光后的清洗组合物具有4至不大于7的pH值。
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