[发明专利]离子束照射装置有效
| 申请号： | 201380008973.3 | 申请日： | 2013-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN104221122B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 山本良明;金永杜;带施兴司德;冈山智彦 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社;株式会社爱发科 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;B65G49/06;H01L21/265;H01L21/677;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 | 代理人： | 芮玉珠 |
| 地址： | 日本国京都府京*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 离子束照射装置(10)具备：真空槽(14)，其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T)；输送部，其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T)；离子束照射部(21L、21U)，其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部(23A‑23D)，其检测输送托盘(T)的位置。位置检测部(23A‑23D)通过输送托盘(T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘(T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘(T)相对于拍摄位置的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 照射 装置 | ||
【主权项】：
一种离子束照射装置，具备：真空槽，其收容对基板进行保持的输送托盘；输送部，其在所述真空槽内向输送方向输送所述输送托盘；离子束照射部，其向所述真空槽内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部，其检测所述输送托盘的位置，其特征在于，所述位置检测部通过所述输送托盘的输送而到达预定的拍摄位置时在所述拍摄位置，对配置在所述输送托盘而表示所述输送托盘上的部位的、并在所述输送托盘的输送方向上从所述输送托盘的一端排列到另一端且彼此不同的、作为多个指标的条形码分别进行拍摄，基于所拍摄到的所述条形码来检测出所述输送托盘相对于所述拍摄位置的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日新离子机器株式会社;株式会社爱发科，未经日新离子机器株式会社;株式会社爱发科许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380008973.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
