[发明专利]具有防反射涂层和紫外线吸收材料的紫外线掩膜在审
| 申请号： | 201380009880.2 | 申请日： | 2013-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN104126150A | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 陈宬;K-W·金;J·钟 | 申请（专利权）人： | 苹果公司 |
| 主分类号： | G03F1/46 | 分类号： | G03F1/46;G03F1/54;G03F1/50;G03F1/58;G02F1/13 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宋海宁 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一个实施例可采取在固化LCD显示器上的密封剂时使用的紫外线掩膜的形式。该紫外线掩膜包括母玻璃和该母玻璃上的紫外线掩膜层。紫外线吸收膜与紫外线掩膜层相邻地定位，并且防反射(AR)膜与紫外线吸收膜相邻地定位。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反射 涂层 紫外线 吸收 材料 | ||
【主权项】：
一种紫外线掩膜，包括：母玻璃；在所述母玻璃上的紫外线掩膜层；与所述紫外线掩膜层相邻的紫外线吸收膜；和与所述紫外线吸收膜相邻的防反射膜。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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