[发明专利]可溶液加工的氧化钨缓冲层和包括其的电子器件有效

专利信息
申请号: 201380010676.2 申请日: 2013-02-15
公开(公告)号: CN104245124B 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: N·A·卢钦格;S·C·哈利姆 申请(专利权)人: 凡泰姆股份公司
主分类号: B01J23/30 分类号: B01J23/30;B01J23/652;B01J23/68;B01J23/888;B01J35/00;B01J35/02;B01J37/02;C03C17/25;C09C1/00;C09D7/12;H01L51/00;H01L51/42;C23C18/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 郭辉
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及有机电子器件领域,例如OLED、OPV和有机光检测器。本发明特别地提供适于制造这种有机电子器件的中间体和材料,提供特殊的制造方法和提供特殊的应用。
搜索关键词: 溶液 加工 氧化钨 缓冲 包括 电子器件
【主权项】:
一种悬浮液形式的组合物,所述组合物包含(a)选自下组的氧化钨纳米颗粒■纯氧化钨纳米颗粒,■掺杂的氧化钨纳米颗粒,以及■核‑壳纳米颗粒,其中所述壳由氧化钨或掺杂的氧化钨组成且所述核由不同的无机材料组成;(b)均相溶剂组合物,其包括■水,■与水形成二元共沸物的第一有机溶剂;其中,在所述溶剂组合物(b)中水的量在相对于所述第一有机溶剂的共沸总含水量以下;其中,在所述组合物中水的量是0.1‑20重量%,以及其中,纳米颗粒的量:水的量之比在9:1(重量/重量)以下。
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