[发明专利]钼烯丙基络合物和其于薄膜沉积中的用途有效
申请号: | 201380010800.5 | 申请日: | 2013-01-18 |
公开(公告)号: | CN104136448A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 拉杰什·奥德德拉;舒恩·葛瑞特;马克·史雷;拉维·坎裘莉亚 | 申请(专利权)人: | 辛格玛艾瑞契有限责任公司 |
主分类号: | C07F11/00 | 分类号: | C07F11/00;C23C16/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 章蕾 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供钼络合物和其在如CVD和ALD的薄膜沉积中的用途。所述钼络合物结构上对应于式(I)和式(II):其中R1、R3、R5、R7、R8和R10在每次出现时独立地为烷基;R2、R6和R9独立地为烷基;R4和R11在每次出现时独立地选自由烷基、烯基和炔基组成的群组;x、z、a、c、d和f独立地为0、1或2;y、b和e独立地为0或1;且n和m独立地为0到5。 | ||
搜索关键词: | 丙基 络合物 薄膜 沉积 中的 用途 | ||
【主权项】:
一种有机金属络合物,其在结构上对应于式I:其中R1和R3在每次出现时独立地为烷基;R2为烷基;R4在每次出现时独立地选自由烷基、烯基和炔基组成的群组;x和z独立地为0、1或2;y为0或1;且n为0到5;其中在n为0时,R1或R2或R3如果存在,则为C2‑C8烷基;且在n为1时,R1或R3如果存在,则为C2‑C8烷基。
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