[发明专利]粘合带用薄膜及粘合带有效
申请号: | 201380011399.7 | 申请日: | 2013-02-08 |
公开(公告)号: | CN104137231B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 由藤拓三;铃木俊隆;白井稚人;安藤雅彦;关口裕香;浅井量子;远藤明日香;林内梨惠 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01L21/301 | 分类号: | H01L21/301;B32B27/00;C09J7/02;C09J133/00;C09J201/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种粘合带用薄膜,其为在基材薄膜上设置有非粘合层的粘合带用薄膜,其能够有效地抑制在利用负压吸附固定在固定用底座上进行切割等时出现因底座发热等引起的过度密合,另外,通过在基材薄膜上设置非粘合层,可有效地抑制卷状形态下的粘连,在从卷状的形态退卷时不会发生断裂或破损,该非粘合层与该基材薄膜的融合性良好,对拉伸等变形的追随性良好。此外,还提供一种包含这样的粘合带用薄膜的粘合带。本发明的粘合带用薄膜在塑料薄膜的一面具备非粘合层,该非粘合层的表面具有凹凸结构,该非粘合层的表面的凸部分的由原子力显微镜得到的80℃下的弹性模量为0.2GPa以上。 | ||
搜索关键词: | 粘合 薄膜 | ||
【主权项】:
一种粘合带用薄膜,其为在塑料薄膜的一面具备非粘合层的粘合带用薄膜,该非粘合层的表面具有凹凸结构,该非粘合层的表面的凸部分的由原子力显微镜得到的80℃下的弹性模量为0.2GPa以上,其中,所述非粘合层具有相分离结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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