[发明专利]卟啉型催化氧化化合物作为去头屑剂的用途有效
申请号: | 201380011491.3 | 申请日: | 2013-02-22 |
公开(公告)号: | CN104135989A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | H.萨曼 | 申请(专利权)人: | 莱雅公司 |
主分类号: | A61K8/19 | 分类号: | A61K8/19;A61K8/49;A61Q5/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段家荣;林森 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及选自卟啉的催化氧化化合物作为去头屑剂的美容用途。 | ||
搜索关键词: | 卟啉 催化 氧化 化合物 作为 头屑 用途 | ||
【主权项】:
单独或以混合物形式的至少一种选自式(I)的化合物的催化氧化化合物或包含其的化妆品组合物作为去头屑剂的美容用途:其中:‑ R2、R3、R5、R6、R8、R9、R11和R12,其相同或不同,代表氢原子;直链或支链的C1‑C30烷基,其可以被一个或多个含有杂原子的基团插入和/或其可以被取代;直链或支链的C2‑C30烯基,其可以被一个或多个含有杂原子的基团插入和/或其可以被取代;直链或支链的C2‑C30炔基,其可以被一个或多个含有杂原子的基团插入和/或其可以被取代;R2和R3、R5和R6、R8和R9和/或R11和R12还可能分别与带有它们的碳原子形成任选被取代的芳基环;‑ R1、R4、R7和R10,其相同或不同,代表阳离子基团,如任选取代的吡啶鎓基团;阴离子基团,如被基团SO3M'‑取代的苯基,其中M'表示氢原子或衍生自例如金属或胺的阳离子或铵阳离子;直链或支链的C8‑C30烷基, 其可以被一个或多个含有杂原子的基团插入和/或其可以被取代;反应性基团,其可以选自硅氧烷、酯和包含一个或多个硫醇基团的化合物;‑ M是选自过渡金属和碱土金属的金属或金属离子。
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