[发明专利]抗生物膜形成的低温等离子体涂层在审
| 申请号： | 201380012058.1 | 申请日： | 2013-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN104204099A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 孙红敏;陈猛 | 申请（专利权）人： | 密苏里大学管委会 |
| 主分类号： | C08L83/02 | 分类号： | C08L83/02;C09D5/14;C09D183/00;C09D183/02 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明为液体接触装置的表面处理方法，其中在低温下通过等离子体沉积技术，将连续的有机硅或有机硅和氧等离子体涂层施加于应用所述方法的一种和多种装置的至少一个接触面。所述等离子体涂层抑制细菌附着于所述装置，并防止在所述装置上形成生物膜。所述涂层优选具有约1nm至约100nm的厚度，更优选约20nm至约30nm的厚度。三甲基硅烷和氧气混合物的近似比为1：4。本发明证明相比未经涂覆表面上形成的生物膜中的细菌细胞，涂有有机硅或有机硅/O2的表面上的细菌细胞对抗生素处理更为敏感。 | ||
| 搜索关键词： | 抗生 形成 低温 等离子体 涂层 | ||
【主权项】：
液体接触装置的表面处理方法，包括以下步骤：将等离子体涂层施加于所述装置的至少一个接触面上，其中所述等离子体涂层抑制细菌附着于所述装置。
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