[发明专利]用于线性等离子体源的静态沉积轮廓调整

摘要

本文中描述使用线性等离子体源来控制膜沉积的方法和设备。该设备包括其中具有用以供气体流过的开口的喷洒头、设置于该喷洒头附近用以支撑一或多个基板在其上的输送器以及用以离子化该气体的电源。该离子化气体可以是用以在基板上沉积材料的来源气体。可以调整该材料在基板上的沉积轮廓，例如使用该设备中包括的气体成型装置。另外地或替代地，可以通过使用可致动的喷洒头来调整沉积轮廓。该方法包括使基板曝露于离子化气体，以在该基板上沉积膜，其中以气体成型装置影响该离子化气体，以在基板被输送到靠近该喷洒头时均匀地将膜沉积在该基板上。

主权项

一种线性等离子体源，包含：喷洒头，内部形成有开口，用以供气体流过；设置于所述喷洒头附近的输送器，所述输送器上适以支撑基板并将所述基板相对于所述喷洒头移动；电源，用以离子化所述气体；以及气体成型装置，设置于所述喷洒头附近，以影响基板上的沉积轮廓，其中所述气体成型装置在处理过程中是可致动的。