[发明专利]真空旋转装置

摘要

本发明涉及在筒状磁控溅射源上的真空中旋转装置，在筒状磁控溅射源中，该设备的靶结构的靶和靶元件可以在不需要真空到大气或真空到冷却剂的动态密封的情况下旋转。本发明涉及在真空等离子技术中这种装置的使用，其中等离子放电，或能量的任意适当来源，例如电弧、激光，可以施加到靶或者靶附近，将会在不同性质的部件上生成相应涂层沉积或等离子处理。本发明还涉及但不限于在溅射、磁控溅射、电弧、等离子体聚合、激光烧蚀和等离子蚀刻中这种装置的使用。本发明还涉及在带有或不带有反馈等离子处理控制的非反应性处理和反应性处理的情况下这种装置的使用和控制。本发明还涉及作为单一的或多个单元的这些装置的排列。本发明还涉及在该装置中可以使用的靶结构。本发明还涉及在不同的电源模式例如直流、直流脉冲、射频、交流、双交流、高功率脉冲磁控溅射，或其他任意电源模式下使用该装置，以产生等离子体，例如溅射等离子、等离子弧、电子束蒸发、离子聚合等离子、等离子处理、或出于该目的的处理所生成的其他任何等离子，所述处理例如但不限于沉积处理或表面处理工艺等。

主权项

一种用于使位于真空室内的可旋转元件旋转的装置，该装置包括：空心支撑轴，所述空心支撑轴延伸进所述真空室内，以在所述真空室内限定一腔，该腔与所述真空室是密封隔离开来的，所述空心支撑轴包括与真空室外部连通的开口端，其特征在于，所述装置具有靶组件和驱动组件，所述靶组件被可拆卸地安装为用于围绕所述空心支撑轴的纵向轴旋转，所述驱动组件可操作地连接至所述靶组件，并被配置为使所述靶组件旋转。