[发明专利]无掩模曝光装置

摘要

曝光装置具有：光调制元件阵列，其二维地排列有能够根据姿势变化来切换光的反射方向的多个光调制元件；照明系统，其使第1光、第2光分别沿着第1方向、第2方向入射到光调制元件阵列，其中，第1光具有相干性，第2光具有相干性且相对于第1光具有相位差；成像光学系统，其使光调制元件阵列所反射的第1光和第2光成像于图案形成面；以及曝光控制部，其根据图案数据控制多个光调制元件各自的姿势，多个光调制元件各自的姿势能够选取在第1位置和第2位置，第1位置使第1光向沿着成像光学系统的光轴的方向反射，第2位置使第2光向沿着成像光学系统的光轴的方向反射，曝光控制部根据图案使多个光调制元件选择性地定位于第1位置和第2位置中的任何一方。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有：光调制元件阵列，其二维地排列有能够根据姿势变化来切换光的反射方向的多个光调制元件；照明系统，其使第1光、第2光分别沿着第1方向、第2方向入射到所述光调制元件阵列，其中，所述第1光具有相干性，所述第2光具有相干性且相对于第1光具有相位差；成像光学系统，其使所述光调制元件阵列所反射的第1光和第2光成像于图案形成面；以及曝光控制部，其根据图案数据控制所述多个光调制元件各自的姿势，所述多个光调制元件各自的姿势能够选取在第1位置和第2位置，所述第1位置使第1光向沿着所述成像光学系统的光轴的方向反射，所述第2位置使第2光向沿着所述成像光学系统的光轴的方向反射，所述曝光控制部根据图案使所述多个光调制元件选择性地定位于第1位置和第2位置中的任何一方。