[发明专利]分散有C颗粒的Fe‑Pt‑Ag‑C基溅射靶及其制造方法

摘要

一种烧结体溅射靶，其为以原子数比计具有(Fe100‑X‑PtX)100‑Y‑Z‑AgY‑CZ(其中，X为满足35≤X≤55的数、Y为满足0.5≤Y≤15的数、Z为满足15≤Z≤55的数)的组成的Fe‑Pt‑Ag‑C基烧结体溅射靶，相对密度为93％以上。一种Fe‑Pt‑Ag‑C基烧结体溅射靶的制造方法，其为Fe‑Pt‑Ag‑C基溅射靶的制造方法，其特征在于，预先制作Fe‑Pt‑C烧结体，将该烧结体粉碎而得到粉碎粉，将该粉碎粉与Ag粉混合，并在低于Ag的熔点的温度下烧结。本发明的课题在于提供能够制作粒状结构的磁性薄膜而不使用高价的共溅射装置、并且使溅射时产生的粉粒量降低的高密度溅射靶。

主权项

一种烧结体溅射靶，其为以原子数比计具有(Fe100‑X‑PtX)100‑Y‑Z‑AgY‑CZ的组成的Fe‑Pt‑Ag‑C基烧结体溅射靶，其中，X为满足35≤X≤55的数、Y为满足0.5≤Y≤15的数、Z为满足15≤Z≤55的数，相对密度为93％以上，所述相对密度是指用靶的实测密度除以计算密度而求出的值，计算密度为假定靶的构成元素混合存在而不相互扩散或反应时的密度，通过下式计算：计算密度＝Σ(构成元素的原子量×构成元素的原子数比)/Σ(构成元素的原子量×构成元素的原子数比/构成元素的文献值密度)在此，Σ是指对靶的全部构成元素求和。