[发明专利]掩模调整单元、掩模装置以及掩模的制造装置和制造方法无效
申请号: | 201380015636.7 | 申请日: | 2013-01-31 |
公开(公告)号: | CN104169455A | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 栗山健太朗;久保智弘 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 梁兴龙;曹正建 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够适当地调整掩模图案的位置的诸如掩模调整单元等技术。这种掩模调整单元设置有基体、可动部件和调整机构。可动部件支撑具有外缘部的掩模主体的外缘部侧并可移动地设置在基体上。调整机构将从掩模主体的外缘部拉向掩模主体的外侧的张力和从外缘部压向掩模主体的内侧的压力经由可动部件施加到由可动部件支撑的掩模主体上。 | ||
搜索关键词: | 调整 单元 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种掩模调整单元,包括:基体;可动部件,所述可动部件支撑具有外缘部的掩模主体的外缘部侧并可移动地设置在所述基体上;和调整机构,所述调整机构将从所述掩模主体的外缘部拉向所述掩模主体的外侧的张力和从所述外缘部压向所述掩模主体的内侧的压力经由所述可动部件施加到所述掩模主体上,所述掩模主体由所述可动部件支撑。
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