[发明专利]阻气膜及阻气膜的制造方法有效
| 申请号： | 201380017055.7 | 申请日： | 2013-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN104203562A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 望月佳彦;藤绳淳 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C23C16/42 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种具有高阻气性、且透明性、耐久性、及柔软性亦优异的阻气膜及阻气膜的制造方法。关于本发明的阻气膜，膜中的氮与硅的组成比N/Si为1.00～1.35，膜密度为2.1g/cm3～2.4g/cm3，膜厚为10nm～60nm，基板与无机膜的界面的混合层的厚度为5nm～40nm。 | ||
| 搜索关键词： | 阻气膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种阻气膜，其特征在于，具备：具有由有机材料形成的表面的基板、及形成于所述基板上的以氮化硅为主要成分的无机膜，所述无机膜中的氮与硅的组成比N/Si为1.00～1.35，膜密度为2.1g/cm3～2.4g/cm3，所述无机膜的膜厚为10nm～60nm，混合层的厚度为5nm～40nm，所述混合层是形成于所述基板与所述无机膜的界面、且含有源自所述有机材料与所述无机膜的成分。
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