[发明专利]用于具有大孔和低孔隙率的微孔径迹蚀刻膜的阴影染色方法有效
| 申请号： | 201380018697.9 | 申请日： | 2013-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN104220667B | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | G·威德尔;M·斯迪尔比兹 | 申请（专利权）人： | 康宁有限公司 |
| 主分类号： | D06P1/02 | 分类号： | D06P1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 项丹 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供用于使微孔径迹蚀刻膜染色的方法。具体地，所述方法适合于具有大孔和低孔隙率的膜的阴影染色。理想地，所述方法提供染色膜，其中与染色前相比，所述膜的参数不会明显改变。类似地，所得到的染色膜对敏感的细胞培养系统应用没有负面影响。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 具有 孔隙率 微孔 径迹 蚀刻 阴影 染色 方法 | ||
【主权项】：
一种用于使微孔膜染色的方法，所述方法包括：在90‑100°C的温度下使孔径大于或等于0.8 μm的所述膜与水分散染料体系接触20‑90分钟，以产生膜透射光谱，其中所述水分散染料体系包含染料添加剂和选自偶氮和蒽醌染料的染料，和随后通过在110‑150ºC下暴露20‑90分钟而加热所述膜。
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