[发明专利]施加临时粘合层的方法在审

专利信息
申请号: 201380018729.5 申请日: 2013-12-16
公开(公告)号: CN104380457A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: J·布格拉夫 申请(专利权)人: EV集团E·索尔纳有限责任公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;C23C16/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐予红;刘春元
地址: 奥地利圣*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要: 发明涉及在载体晶片(1)上面施加临时粘合层(2,2′,2″)以便通过熔融粘合或阳极粘合与产品晶片(4)临时粘合的方法,其包括下述步骤,尤其是下述流程:在载体晶片(1)上面施加适合于熔融粘合或阳极粘合的临时粘合层(2,2′,2″)和在施加过程中和/或之后修改临时粘合层(2,2′,2″),使得临时粘合层(2,2′,2″)的临时连接是可分开的。
搜索关键词: 施加 临时 粘合 方法
【主权项】:
在载体晶片(1)上面施加临时粘合层(2,2′,2″)以便通过熔融粘合或阳极粘合与产品晶片(4)临时粘合的方法,其包括下述步骤,尤其是下述流程:‑在所述载体晶片(1)上面施加适合于熔融粘合或阳极粘合的所述临时粘合层(2,2′,2″)和‑在施加过程中和/或之后修改所述临时粘合层(2,2′,2″),使得所述临时粘合层(2,2′,2″)的临时连接是可分开的。
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