[发明专利]X射线管有效

专利信息
申请号: 201380019796.9 申请日: 2013-04-08
公开(公告)号: CN104246964A 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 金崎弘司;高桥英幸;三森惠一;植木雅敬 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子管器件株式会社
主分类号: H01J35/06 分类号: H01J35/06;H01J35/14
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 宋俊寅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: X射线管包括阳极靶、具有电子发射源及聚焦电极的阴极、以及真空外围器。聚焦电极包含收纳有电子发射源的槽部(16),且使电子束聚焦。槽部(16)具有最接近内周壁(53)、上内周壁(51)及下内周壁(52)。最接近内周壁(53)在槽部的深度方向上短于电子发射源的尺寸,且在槽部的宽度方向上隔开最窄间隙在整个外周与电子发射源相对。上内周壁(51)相比最接近内周壁(53)位于更靠槽部的开口侧,具有比最接近内周壁(53)更向宽度方向扩展的形状。下内周壁(52)相对于最接近内周壁(53)位于上内周壁(51)的相反侧,具有比最接近内周壁(53)更向宽度方向扩展的形状。
搜索关键词: 射线
【主权项】:
一种X射线管,其特征在于,包括:阳极靶,该阳极靶通过入射电子束来发射X射线;阴极,该阴极具有:电子发射源,该电子发射源发射电子;及聚焦电极,该聚焦电极包含收纳有所述电子发射源的槽部,且通过从所述电子发射源发射电子来使通过所述槽部的开口射向所述阳极靶的电子束聚焦;以及真空外围器,该真空外围器收容所述阳极靶及阴极;且所述槽部包括:最接近内周壁,该最接近内周壁在所述槽部的深度方向上短于所述电子发射源的尺寸,且在所述槽部的宽度方向上隔开最窄间隙在整个外周与所述电子发射源相对;上内周壁,该上内周壁相比所述最接近内周壁位于更靠所述槽部的开口侧,且具有比所述最接近内周壁更向宽度方向扩展的形状;以及下内周壁,该下内周壁相对于所述最接近内周壁位于所述上内周壁的相反侧,且具有比所述最接近内周壁更向宽度方向扩展的形状。
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