[发明专利]用于形成气密阻挡层的溅射靶和相关溅射方法无效
| 申请号： | 201380020090.4 | 申请日： | 2013-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN104379799A | 公开（公告）日： | 2015-02-25 |
| 发明（设计）人： | B·G·艾特肯;S·E·科瓦;M·A·凯斯达 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;H01J37/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 项丹 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 溅射靶包括低Tg玻璃或者铜或锡的氧化物。此类靶材料可用于形成机械稳定的薄膜，其展现自钝化现象，并且可用于对灵敏工件进行密封，以免于暴露于空气或水分。低Tg玻璃材料可包括磷酸盐玻璃，例如磷酸锡和氟磷酸锡，硼酸盐玻璃、亚碲酸盐玻璃和硫属化物玻璃，及其组合。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 气密 阻挡 溅射 相关 方法 | ||
【主权项】：
一种溅射靶，其包含选自下组的溅射材料：低Tg玻璃、低Tg玻璃的前体以及铜或锡的氧化物。
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