[发明专利]衬底保持装置、光刻设备以及器件制造方法无效
| 申请号： | 201380020325.X | 申请日： | 2013-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN104350423A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | R·拉斐尔;N·德兹欧姆奇娜;Y·卡拉第;E·罗登勃格;H·西恩格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种用于光刻设备中的衬底保持装置。所述衬底保持装置包括：主体(100)，所述主体具有表面(107)；多个突节(106)，从所述表面突出并且具有用以支撑衬底的端表面；和位于主体表面上且形成电气部件或电子部件的薄膜叠层(200)，薄膜叠层包括导电层(108)，导电层配置成将电荷基本上均匀地分布在叠层的导电层定位所在的整个平面上。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 保持 装置 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用在光刻设备中的衬底保持装置，所述衬底保持装置包括：主体，所述主体具有表面；多个突节，所述多个突节从所述表面突出并且具有用以支撑衬底的端表面；和位于主体表面上且形成电气部件或电子部件的薄膜叠层，所述薄膜叠层包括导电层，所述导电层配置成将电荷大体上均匀地分布在所述薄膜叠层的、所述导电层定位所在的整个平面上。
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