[发明专利]用于对细长的、圆柱形的构件进行等离子涂覆的装置和方法

摘要

本发明涉及一种用于对细长的、圆柱形的构件进行等离子涂覆的装置和方法。所述装置具有：至少一个处理腔(1)；细长的第一存储腔(2)和细长的第二存储腔(3)，存储腔没有闭锁装置地与处理腔(1)连接；细长的第一传送腔(4)，第一传送腔与第一存储腔(2)连接；细长的第二传送腔(5)，第二传送腔与第二存储腔(3)连接；在第一传送腔和第二传送腔(4、5)的两个端部上的闭锁装置(9、10、11、12)；至少一个泵系统(6、36)；在第一传送腔和第二传送腔(4、5)中以及第一存储腔和第二存储腔(2、3)中的运送装置，运送装置将至少两个构件(13、14)同时和彼此并行定向地供应给处理腔(1)和从处理腔(1)导出；和在处理腔(1)中或上的至少一个等离子燃烧器。

主权项

一种用于对细长的、圆柱形的构件进行等离子涂覆的装置，包括：至少一个处理腔(1)，第一存储腔(2)，所述第一存储腔(2)与所述处理腔(1)没有闭锁装置地连接，第二存储腔(3)，所述第二存储腔(3)在所述处理腔(1)的背离所述第一存储腔的侧面上与所述处理腔(1)没有闭锁装置地连接，细长的第一传送腔(4)，所述第一传送腔(4)在背离所述处理腔的侧面上与所述第一存储腔(2)连接，细长的第二传送腔(5)，所述第二传送腔(5)在背离所述处理腔的侧面上与所述第二存储腔(3)连接，在所述第一传送腔(4)的两个端部上和所述第二传送腔(5)的两个端部上的闭锁装置(9、10、11、12)，一个或多个泵系统(6、36)，所述泵系统用于对所述处理腔(1)、所述第一存储腔(2)和所述第二存储腔(3)以及所述第一传送腔(4)和所述第二传送腔(5)进行排真空，在所述第一传送腔和所述第二传送腔(4、5)中以及所述第一存储腔和所述第二存储腔(2、3)中的运送装置，所述运送装置将至少两个构件(13、14)同时并且彼此平行定向地供应给所述处理腔(1)和从所述处理腔(1)导出，在所述处理腔(1)中或上的至少一个等离子燃烧器(37)，该等离子燃烧器(37)的等离子体射束以0°和180°的不同的角度相对于所述运送装置的运送方向定向，所述至少两个构件(13、14)同时用导入等离子体射束(39)中的涂覆材料涂覆。