[发明专利]微细图案转印用模具的制造方法以及使用该模具的具有凹凸结构的基板的制造方法、以及具备具有该凹凸结构的基板的有机电致发光元件的制造方法有效
申请号: | 201380021957.8 | 申请日: | 2013-03-19 |
公开(公告)号: | CN104254438B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 关隆史;增山聪;福田真林;西村凉 | 申请(专利权)人: | 吉坤日矿日石能源株式会社 |
主分类号: | B29C59/02 | 分类号: | B29C59/02;B29C33/38;H01L21/027;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明以简单的工艺且高生产量提供一种微细图案转印用模具,该模具适合制造衍射光栅等具有凹凸结构的基板。一种微细图案转印用模具的制造方法,其包括以下工序:涂布工序,在基材的表面上涂布包含嵌段共聚物与聚环氧烷的溶液;溶剂相分离工序,使嵌段共聚物在有机溶剂蒸气的存在下相分离,从而得到在表面上具有凹凸结构且内部为水平圆筒结构的嵌段共聚物膜;层叠工序,通过电铸层叠金属层;以及剥离工序,将具有所述凹凸结构的基材从所述金属层剥离。 | ||
搜索关键词: | 微细 图案 转印用 模具 制造 方法 以及 使用 具有 凹凸 结构 具备 有机 电致发光 元件 | ||
【主权项】:
一种模具的制造方法,其为微细图案转印用模具的制造方法,其特征在于,包括以下工序:涂布工序,在基材的表面上涂布包含至少包含第1聚合物链段和第2聚合物链段的嵌段共聚物以及聚环氧烷的溶液;所述嵌段共聚物中的所述第1聚合物与所述第2聚合物的体积比为4:6~6:4;溶剂相分离工序,使所述涂布后的溶液中的嵌段共聚物在有机溶剂蒸气的存在下相分离,从而得到表面上具有凹凸结构且内部为水平圆筒结构的嵌段共聚物膜;形成工序,在所述嵌段共聚物膜的凹凸结构上形成籽晶层;层叠工序,通过电铸在所述籽晶层上层叠金属层;以及剥离工序,将具有所述凹凸结构的基材从所述金属层剥离。
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