[发明专利]用于改变多个辐射束的性质的组件、光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法以及器件制造方法在审
| 申请号： | 201380022486.2 | 申请日： | 2013-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN104272192A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | H·玛尔德;P·德加格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B6/00;H01S5/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种改变多个辐射束的性质的组件，该组件包括多个波导，其被配置为引导多个辐射束更靠近在一起；和倍频器件，其被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束。还描述了相应的光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法和器件制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改变 辐射 性质 组件 光刻 仪器 方法 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种改变多个辐射束的性质的组件，所述组件包括：多个波导，被配置为将多个辐射束引导成更靠近在一起；和倍频器件，被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束，并且生成具有整数倍高频率的相应的多个辐射束。
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